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【產品名稱】1700℃-CVD管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區】300mm 【額定溫度】1700℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料。
【產品名稱】1200℃-PECVD管式爐系統 【爐管尺寸】φ40--φ100mm 【加熱區】300mm/440mm 【額定溫度】1200℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】PECVD系統（等離子增強化學氣相沉積系統）由管式爐、真空獲得、流量控制和射頻電源四大模塊組成。
【產品名稱】1700℃立式管式爐 【爐管尺寸】φ40--φ100mm 【加熱區】300mm 【額定溫度】1700℃ 【電源電壓】AC220V/50Hz 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】1700℃立式管式爐主要為高等院校、科研院所、工廠企業等行業實驗室提供高溫熱處理環境，可在應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域。
STGZ-100-14立式淬火爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。
STGL-336-12-3 多管立式管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。
【產品名稱】1700℃三溫區立式管式爐 【爐管尺寸】φ40--φ100mm 【加熱區】200mm+200mm+200mm 【額定溫度】1700℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】1700℃ 三溫區立式管式爐通過CE認證，額定溫度1700℃，爐管采用剛玉管，三個溫區采用獨立的控制系統，通過溫控調節可形成三個不同的梯度溫場，爐蓋開啟式結構，PID30段程序控溫，適用于精密陶瓷等新材料的熱處
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